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CARATTERIZZAZIONE IN-SITU DI MATERIALI E DISPOSITIVI PER IL FOTOVOLTAICO ORGANICO

In una prima fase si prevede di realizzare un sistema di deposizione di film sottili organici di tipo dip-coating in cui parametri di deposizione sono controllabili da remoto con un PC e di integrare tale sistemi con un sistema multispettrale di riflessione ottica. Successivamente si prevede di realizzare una serie di film sottili di materiale organico noto, come il P3HT, con spessori differenti e di monitorare l’evoluzione dei segnali ottici durante la deposizione. Dopo la deposizione si prevede di misurare lo spessore finale con metodi classici come l’ ellissometria spettrale e “step-profiling”. Dal confronto delle misure in-situ e ex-situ si calibra il sistema di misura in-situ.Dopo aver messo a punto tale misure durante il metodo di crescita, con un’evoluzione dei segnali ottici relativamente lenti nel caso di tipo dip-coating, in cui le misure ottiche possono essere realizzate nella pausa tra due fase di “dipping”, si prevede di implementare in una seconda fase di questo tipo di misura anche al metodo di crescita di tipo spin-coating. In questo caso i tempi d’acquisizione sono molto brevi e necessitano lo sviluppo di un interfaccia opto-elettronica veloce. Oltre le misure in-situ di tipo ottico si prevede, in un’ulteriore fase del progetto, di sviluppare anche un sistema in-situ per la misura della conducibilità e fotoconducibilità elettrica dei film sottili in crescita.